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한국화학공학회 학술발표회 VOD
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CVD/ALD process monitoring system (2)(The evaluation of a precursor using FT-IR spectroscopy, thermal analysis, and the deposition chamber)

강상우1, 윤주영1, 성대진1, 신용현1, 이시우2, 송문균2(1한국표준과학(연),2포항공과대)

본 동영상은 화학공학소재연구정보센터(http://www.cheric.org)의 협조를 통해서 제공하고 있습니다.