차세대 고분자 박막 기반 표면기술연구회에서 개최하는 “iCVD 기반 고분자 박막을 통한 소재 표면 기능화 전략” 워크샵을 안내드립니다.
•일시: 2026.02.24(화) 13:00–17:50
•장소: KAIST 학술문화관 양승택 오디토리움(2층) / 온라인 병행(Zoom)
•온라인 참석: https://kaist.zoom.us/j/
회의 ID: 828 8641 3736 / 암호: 177471
본 워크샵에서는 iCVD 공정 원리 및 주요 제어 인자를 중심으로, 표면개질·바이오·전자소자·반도체/패키징 응용까지 다양한 분야의 발표가 준비되어 있습니다.. 자세한 프로그램은 첨부된 flyer를 참고 부탁드립니다.
원활한 행사 준비를 위해 참석자 조사(RSVP)를 진행하고 있습니다.