Print: | ISSN 0304-128X |
Online: | ISSN 2233-9558 |
HWAHAK KONGHAK,
Vol.37, No.2, 304-312, 1999 Q-ILC를 이용한 고속 열처리 공정의 온도 제어
Temperature Control in Rapid Thermal Processing Using Q-lLC
RTP는 짧은 가공시간으로 열적 결함을 줄일 수 있는 단일 웨이퍼 가공 공정으로 현재 반도체 산업에서 많이 적용되고 있다. 그러나 웨이퍼 표면의 온도 균일도 유지가 아직도 어려운 문제로 남아 있다. 본 연구에서는 모델 오차가 있는 경우에도 점진적으로 제어 오차를 최소화시킬 수 있는 Q-lLC(Quadratic criterion-based Iterative learning Control)를 이용한 열린 루프 제어방법을 제안하였으며,8 inch 웨이퍼용 RTP 모델을 대상으로 그 성능을 검증하였다. Q-ILC의 설계에 필요한 시변 선형 모델은 subspace 방법을 통해 구한 각 온도별 시불변 선형 모델의 조합으로 유도하였다. 또한 계산량을 줄일 수 있는 차수 감소 Q-ILC를 설계하고 그 성능을 Q-lLC와 비교하였다.
Although RTP(rapid thermal processing) has gained popularity recently in the semi-conductor industry due a difficult problem. In this study, as an open-loop control technique for RTP temperature distribution, we propose to use Q-ILC(quadratic criterion-based iterative learning control), which can asymptotically attains the minimum achievable control error even under a significant model error, and investigate the performance with an 8-inch silicon wafer RTP model. The time-varying linear model required in the design of Q-ILC was derived by combining the time-invariant linear models identified using the subspace method at each temperature zone. In addition, in order to reduce the heavy computational burden, a reduced-order Q-ILC algorithm was designed and its performance was compared with that of full-order algorithm.
[References]
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