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| Total 18 articles [ 키워드: Etching ] |
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Article |
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Korean Chemical Engineering Research, 44 (5), pp.520-527 (2006)
실리콘 산화막의 플라즈마 식각에 대한 표면반응 모델링
Surface Reaction Modeling for Plasma Etching of SiO2 Thin Film
임연호 |
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Korean Chemical Engineering Research, 43 (4), pp.531-536 (2005)
고밀도 플라즈마 식각에 의한 CoTb과 CoZrNb 박막의 식각 특성
Etch Characteristics of CoTb and CoZrNb Thin Films by High Density Plasma Etching
신별, 박익현, 정지원 |
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Korean Chemical Engineering Research, 43 (1), pp.76-79 (2005)
Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마를 이용한 NiFe, NiFeCo, Ta의 건식식각
Dry Etching of NiFe, NiFeCo, and Ta in Cl2/Ar Inductively Coupled Plasma
라현욱, 박형조, 김기주, et al. |
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Korean Chemical Engineering Research, 42 (6), pp.712-715 (2004)
Hard Mask 용 SiO2의 NF3/Ar ICP 식각특성과 실험계획법과의 비교
Dry Etching of SiO2 Hard Mask in NF3/Ar Inductively Coupled Plasmas and Comparison with Design of Experiments
박형조, 라현욱, 남기석, et al. |
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HWAHAK KONGHAK, 40 (5), pp.592-595 (2002)
대기압하에서 비평형 플라스마 생성과 산화아연(ZnO)박막의 식각에의 응용
Generation of Non-Equilibrium Plasma Under Atmospheric Pressure and Its Application to Etching Processes of Zinc Oxide Films
이봉주 |
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HWAHAK KONGHAK, 38 (6), pp.774-782 (2000)
3성분 혼합 Ru-Sn-Ti/Ti 산화물 전극의 제조 및 재료 특성(I)
Fabrication and Material properties of Ru-Sn-Ti Ternary Mixed Oxide/Ti Electrode(I)
김광욱, 이일희, 김정식, et al. |
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HWAHAK KONGHAK, 38 (3), pp.393-397 (2000)
염화 제2철 용액에 의한 Shadow Mask의 식각에 관한 연구
Studies on the Ferric Chloride Etching of Shadow Masks
윤덕선, 이근우, 박진호 |
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HWAHAK KONGHAK, 35 (4), pp.504-513 (1997)
HF-산화제-H2O 수용액에서 Si 식각반응의 속도론적 연구
A Study on Kinetics of Silicon Etching Reaction in HF-Oxidizing Agents-H2O Solutions
서영훈, 김선중, 김광철, et al. |
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