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Total 70 articles [ 키워드: Plasma ] |
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Article |
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Korean Chemical Engineering Research, 46 (5), pp.1002-1007 (2008) PEMFC용 플라즈마 개질 시스템의 수소 생산 Hydrogen Production for PEMFC Application in Plasma Reforming System 양윤철, 전영남 |
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Korean Chemical Engineering Research, 46 (4), pp.701-706 (2008) 이송식 아크 플라즈마를 이용한 MLCC용 니켈 나노분말의 합성 Preparation of Nickel Nanopowder using the Transferred Arc Plasma for MLCCs 정다운, 오성민, 박동화 |
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Korean Chemical Engineering Research, 46 (2), pp.408-413 (2008) 저압급속열산화법과 플라즈마확산산화법에 의한 실리콘 산화박막의 제조 Fabrication of Ultrathin Silicon Oxide Layer by Low Pressure Rapid Thermal Oxidation and Remote Plasma Oxidation 고천광, 이원규 |
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Korean Chemical Engineering Research, 45 (6), pp.656-662 (2007) 고분자 전해질 연료전지용 플라즈마 개질 시스템에서 수소 생산 및 CO 산화반응에 관한 연구 Study on Hydrogen Production and CO Oxidation Reaction using Plasma Reforming System with PEMFC 홍석주, 임문섭, 전영남 |
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Korean Chemical Engineering Research, 45 (5), pp.455-459 (2007) DBD 반응기에서 솔-젤 법으로 제조된 Pt/TiO2 촉매를 이용한 메탄의 플라즈마 전환반응 Plasma Catalytic Methane Conversion over Sol-gel Derived Pt/TiO2 Catalyst in a Dielectric-barrier Discharge Reactor 김승수 |
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Korean Chemical Engineering Research, 45 (2), pp.183-189 (2007) 유전체 장벽 방전을 이용한 원소수은의 산화특성 Oxidation of Elemental Mercury using Dielectric Barrier Discharge Process 변영철, 고경보, 조무현, et al. |
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Korean Chemical Engineering Research, 44 (6), pp.588-596 (2006) 플라즈마 처리된 폴리스티렌 막을 통한 순수한 CO2와 N2 기체의 선택·투과 특성 Selectivity and Permeability Characteristics of Pure CO2 and N2 Gases through Plasma Treated Polystyrene Membrane 황의동, 신희용, 곽현현, et al. |
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Korean Chemical Engineering Research, 44 (5), pp.483-488 (2006) Remote 플라즈마에서 위치 및 반응기체에 따른 PMMA의 식각 특성 분석 Influence of Loading Position and Reaction Gas on Etching Characteristics of PMMA in a Remote Plasma System 고천광, 이원규 |
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Korean Chemical Engineering Research, 44 (5), pp.498-504 (2006) 고밀도 CHF3 플라즈마에서 바이어스 전압과 이온의 입사각이 Photoresist의 식각에 미치는 영향 Effects of Bias Voltage and Ion-incident Angle on the Etching of Photoresist in a High-density CHF3 Plasma 강세구, 민재호, 이진관, et al. |
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Korean Chemical Engineering Research, 44 (5), pp.520-527 (2006) 실리콘 산화막의 플라즈마 식각에 대한 표면반응 모델링 Surface Reaction Modeling for Plasma Etching of SiO2 Thin Film 임연호 |
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