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| Total 70 articles [ 키워드: Plasma ] |
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Article |
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Korean Chemical Engineering Research, 49 (6), pp.710-714 (2011)
Thermal Plasma Spray Coating 법에 의해 코팅된 SOFC용 세라믹 연결재 특성 분석
Property Analysis of Ceramic Interconnect Prepared by Thermal Plasma Spray Coating Method for SOFC
박광연, 피석훈, 이종원, et al. |
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Korean Chemical Engineering Research, 49 (6), pp.835-839 (2011)
토치형 상압 플라즈마의 방전특성과 미생물의 국부 살균효과
Discharge Properties of Torch-Type Atmospheric Pressure Plasma and Its Local Disinfection of Microorganism
손향호, 이원규 |
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Korean Chemical Engineering Research, 49 (4), pp.485-490 (2011)
워터젯 글라이딩 아크 플라즈마를 이용한 사불화탄소 저감
Reduction of Tetrafluoromethane using a Waterjet Gliding Arc Plasma
이채홍, 전영남 |
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Korean Chemical Engineering Research, 49 (3), pp.271-276 (2011)
대면적 대기압 플라즈마-용액 시스템을 이용한 폴리프로필렌 표면 처리
Surface Treatment of Polypropylene using a Large Area Atmospheric Pressure Plasma-solution System
트란 꺽시, 최호석 |
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Korean Chemical Engineering Research, 49 (3), pp.357-360 (2011)
플라즈마 원자층 증착 방법을 이용한 N-doped ZnO 나노박막의 구조적·광학적·전기적 특성
Structural, Optical and Electrical Properties of N-doped ZnO Nanofilms by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
김진환, 양완연, 한윤봉 |
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Korean Chemical Engineering Research, 48 (5), pp.556-560 (2010)
대기압 플라즈마를 이용한 부타디엔고무 소재의 접착력 개선
Improvement of adhesion strength of Butadiene Rubber using Atmospheric Plasma
설수덕 |
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Korean Chemical Engineering Research, 48 (4), pp.540-543 (2010)
저온플라즈마에 의한 질소산화물의 제거에 관한 연구
A Study on Removal of NOx by Low Temperature Plasma
박희재, 이내우, 최재욱, et al. |
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Korean Chemical Engineering Research, 48 (3), pp.355-358 (2010)
유도 결합형 저온 플라즈마 처리에 따른 폴리카보네이트 표면 특성 변화
Influence of Inductively Coupled Plasma on Surface Properties of Polycarbonate
원동수, 이원규 |
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Korean Chemical Engineering Research, 47 (1), pp.59-64 (2009)
대기압 플라즈마 처리에 따른 PLA(polylactic acid) 필름의 표면특성 변화
Surface Characteristics of PLA(Polylactic acid) Film Treated by Atmospheric Pressure Plasma
정진석, 류욱연, 최호석 |
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Korean Chemical Engineering Research, 47 (1), pp.79-83 (2009)
Cl2/HBr/O2 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성
Characteristics of Amorphous Silicon Gate Etching in Cl2/HBr/O2 High Density Plasma
이원규 |
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