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Total 4 articles [ 키워드: High Density Plasma ] |
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Article |
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Korean Chemical Engineering Research, 47 (1), pp.79-83 (2009) Cl2/HBr/O2 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성 Characteristics of Amorphous Silicon Gate Etching in Cl2/HBr/O2 High Density Plasma 이원규 |
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Korean Chemical Engineering Research, 44 (5), pp.520-527 (2006) 실리콘 산화막의 플라즈마 식각에 대한 표면반응 모델링 Surface Reaction Modeling for Plasma Etching of SiO2 Thin Film 임연호 |
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Korean Chemical Engineering Research, 42 (6), pp.712-715 (2004) Hard Mask 용 SiO2의 NF3/Ar ICP 식각특성과 실험계획법과의 비교 Dry Etching of SiO2 Hard Mask in NF3/Ar Inductively Coupled Plasmas and Comparison with Design of Experiments 박형조, 라현욱, 남기석, et al. |
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HWAHAK KONGHAK, 39 (1), pp.77-84 (2001) 층간 절연막으로 응용하기 위한 저 유전체 불화탄소 플라즈마 고분자/SiO2 복합박막의 증착 Deposition of Low-Dielectric Fluorocarbon Plasma Polymer/SiO2 Composite Thin Film for Inter-layer Dielectric(ILD) Application 김동선, 강나경 |
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