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| Total 17 articles [ 키워드: CVD ] |
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Article |
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Korean Chemical Engineering Research, 50 (3), pp.574-581 (2012)
PECVD에 의한 OLED 소자의 Thin Film Passivation 특성
Characterization of Thin Film Passivation for OLED by PECVD
김관도, 장석희, 김종민, et al. |
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Korean Chemical Engineering Research, 49 (4), pp.405-410 (2011)
화학기상 증착법을 이용하여 제조된 텅스텐 산화막의 전기변색 소자 응용 연구
Preparation of WO3 Films by CVD and their Application in Electrochromic Devices
정훈, 선우창신, 김도형 |
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Korean Chemical Engineering Research, 46 (3), pp.619-625 (2008)
무기 및 유기 박막을 포함하는 웨이퍼 적층 구조의 본딩 결합력
Bond Strength of Wafer Stack Including Inorganic and Organic Thin Films
권용재, 석종원 |
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Korean Chemical Engineering Research, 46 (2), pp.389-396 (2008)
고온 열순환 공정이 BCB와 PECVD 산화규소막 계면의 본딩 결합력에 미치는 영향에 대한 연구
A Study on the Effects of High Temperature Thermal Cycling on Bond Strength at the Interface between BCB and PECVD SiO2 Layers
권용재, 석종원, Lu JQ, et al. |
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Korean Chemical Engineering Research, 46 (1), pp.50-55 (2008)
RF Plasma CVD법에 의해 증착된 카본나노튜브(CNT)의 특성에 대한 기판 온도의 영향
The Effects of Substrate Temperature on Properties of Carbon Nanotube Films Deposited by RF Plasma CVD
김동선 |
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Korean Chemical Engineering Research, 45 (4), pp.378-383 (2007)
PRTMOCVD 법을 통한 단성분계 산화막의 적층형 구조로부터 Zirconium Titanate 박막의 제조
Fabrication of Zirconium Titanate Thin film from Layer-by-Layer Structure of Primitive Oxides prepared by PRTMOCVD
송병윤, 권영중, 이원규 |
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Korean Chemical Engineering Research, 43 (2), pp.215-221 (2005)
Fe-MCM-41의 제조, 물성조사 및 촉매적 응용 연구
Synthesis, Characterization, and Catalytic Applications of Fe-MCM-41
윤상순, 최정식, 최형진, et al. |
| 8 |
Korean Chemical Engineering Research, 43 (1), pp.85-91 (2005)
PET 기판상에 ECR 화학증착법에 의해 제조된 SnO2 투명도전막의 특성
Characteristics of Transparent Conductive Tin Oxide Thin Films on PET Substrate Prepared by ECR-MOCVD
김연석, 전법주, 주재백, et al. |
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Korean Chemical Engineering Research, 43 (1), pp.98-102 (2005)
CVD법에 의해 성막된 구리의 표면 형상 및 충진 특성에 관한 연구
Surface Morphology and Hole Filling Characteristics of CVD Copper
김덕수, 선우창신, 박돈희, et al. |
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Korean Chemical Engineering Research, 42 (4), pp.447-450 (2004)
플라즈마 화학증착법에 의한 질화탄소규소 박막의 성장과 Si 나노점 형성
Formation of Si Nano Dots and Silicon Carbon Nitride Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
홍주형, 김상훈, 한윤봉 |
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