Issue
Total 12 articles [ 저자: 남기석 ]
No. Article
1 Korean Chemical Engineering Research, 49 (5), pp.644-651 (2011)
탄소나노튜브 기반의 고체수소저장시스템에 관한 전산해석
Numerical Simulation of CNTs Based Solid State Hydrogen Storage System

김상곤, 황보치형, 유철희, et al.
2 Korean Chemical Engineering Research, 49 (3), pp.330-337 (2011)
자기조립단분자막을 위한 보편적이고 기능화된 긴 사슬 알킬티올 연결자의 제조
Preparations of Universal, Functionalized Long-Chain Alkylthiol Linkers for Self-assembled Monolayers

유동진, 이경섭, 김애란, et al.
3 Korean Chemical Engineering Research, 43 (4), pp.439-451 (2005)
나노구조물질을 이용한 고체수소저장 기술 동향
Advances in the Technology of Solid State Hydrogen Storage Methods Using Novel Nanostructured Materials

Zacharia R, 김근영, 남기석
4 Korean Chemical Engineering Research, 42 (6), pp.712-715 (2004)
Hard Mask 용 SiO2의 NF3/Ar ICP 식각특성과 실험계획법과의 비교
Dry Etching of SiO2 Hard Mask in NF3/Ar Inductively Coupled Plasmas and Comparison with Design of Experiments

박형조, 라현욱, 남기석, et al.
5 HWAHAK KONGHAK, 41 (1), pp.68-74 (2003)
LiNiO2의 합성 최적조건 확립 및 과량의 리튬함량과 Al 도핑이 전기화학적 특성에 미치는 영향
Optimization of LiNiO2 Synthetic Condition and Effect of Excess Lithium and Al Doping on Electrochemical Characteristics of the Lithium Nickel Oxides

박기수, 조명훈, 박상호, et al.
6 HWAHAK KONGHAK, 38 (5), pp.676-682 (2000)
Si(100) 기판 위에 성장된 3C-SiC(100)의 특성 연구
Characterization of 3C-SiC(100) Grown on Si(100) Substrate

김광철, 박찬일, 노재일, et al.
7 HWAHAK KONGHAK, 38 (5), pp.683-690 (2000)
RTCVD 반응기에서 Ni 촉매를 이용한 탄소나노튜브의 성장
Growth of Carbon Nanotubes Using Ni Catalysts in RTCVD Reactor

모영환, 박기수, 박상호, et al.
8 HWAHAK KONGHAK, 35 (4), pp.504-513 (1997)
HF-산화제-H2O 수용액에서 Si 식각반응의 속도론적 연구
A Study on Kinetics of Silicon Etching Reaction in HF-Oxidizing Agents-H2O Solutions

서영훈, 김선중, 김광철, et al.
9 HWAHAK KONGHAK, 31 (5), pp.513-520 (1993)
수소기체에 함유된 O2, CO 및 탄화수소 기체에 의한 LaNi5의 불활성화 및 재생
Deactivation of LaNi5 by O2, CO and Hydrocarbon Gases Contained in Hydrogen Gas and Its Regeneration

남기석, 문성식, 이화영
10 HWAHAK KONGHAK, 31 (3), pp.255-262 (1993)
ECR plasma 식각장치에서 CF4에 의한 Si의 식각반응에 관한 연구
The etching reaction of silicon with CF4 in ECR plasma etching system

윤민희, 김종배, 남기석, et al.
1 [2]