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Korean Chemical Engineering Research,
Vol.45, No.4, 378-383, 2007
Vol.45, No.4, 378-383, 2007
PRTMOCVD 법을 통한 단성분계 산화막의 적층형 구조로부터 Zirconium Titanate 박막의 제조
Fabrication of Zirconium Titanate Thin film from Layer-by-Layer Structure of Primitive Oxides prepared by PRTMOCVD
Zirconium titanate(ZrxTi1-xO2)와 같은 다성분계 금속산화물의 박막을 형성함에 있어 비교적 저온에서 박막성분 간의 정확한 조성조절이 이루어지며 균일한 박막특성을 같게 하는 새로운 박막제조 공정방법을 제시하였다. 이 공정방법은 우선 다성분계 금속산화박막을 구성하는 단성분계 금속산화막들을 적층식구조로 형성하여 적절한 열처리로 고상확산 반응을 통한 단일상 다성분계 박막을 형성하는 것을 특징으로 한다. 본 연구에서는 단성분계 산화박막층을 형성하는 방법으로 나노두께의 박막을 형성할 수 있는 능력과 두께조절성이 우수한 PRTMOCVD(pulsed rapid thermal metalorganic chemical vapor deposition) 법이 개발 적용하였다. PRTMOCVD 법으로 ZrO2와 TiO2 단성분 산화막의 두께를 제어하면서 교차로 적층시킨 후 850 ℃의 질소분위기에서 30분간 열처리를 통한 박막간의 상호확산을 통해 ZrxTi1-xO2 다성분계 산화박막을 형성하였다. 박막내의 Zr과 Ti의 조성은 ZrO2와 TiO2 단성분 산화막의 두께로 조절하였다. 형성된 ZrxTi1-xO2 박막에 대한 상세한 물성을 분석하였다.
A novel fabrication method for the multi-component metal oxides such as zirconium titanate(ZrxTi1-xO2) has been suggested, which would yield the uniform film characteristics and control the film composition at relatively low process temperature. The method has the basic concept that firstly layer-by-layer structure is constructed with the primitive oxide layers, which are components of the desired multi-component oxides, and secondly the film is annealed at appropriate thermal conditions for the transformation to a single-phase multi-component oxides. In this study, PRTMOCVD(pulsed rapid thermal metalorganic chemical vapor deposition) possessing the superior thickness controllability was introduced to prepare ZrO2 and TiO2 thin film for zirconium titanate. Single-phase zirconium titanate thin films have been prepared successfully by the interdiffusion of oxide multilayers having several alternating layers of ZrO2 and TiO2. The Zr/Ti ratio of zirconium titanate could be controlled easily by altering the thickness of ZrO2 and TiO2 thin film.
Keywords:
PRTMOCVD; Composition Control; Layer-by-layer; Zirconium Titanate; Solid State Thermal Diffusion
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