|
|
|
Search / Korean Journal of Chemical Engineering
|
| Total 6 articles [ 키워드: Vapor Deposition ] |
| No. |
Article |
| 1 |
Korean Chemical Engineering Research, 46 (6), pp.1063-1068 (2008)
CVD법으로 제조된 산화티탄 볼과 마이크로웨이브를 이용한 메틸렌블루 수용액의 광촉매분해
The Microwave-assisted Photocatalytic Degradation of Methylene Blue Solution Using TiO2 Balls Prepared by Chemical Vapor Deposition
박상숙, 박재현, 김선재, et al. |
| 2 |
Korean Chemical Engineering Research, 46 (4), pp.701-706 (2008)
이송식 아크 플라즈마를 이용한 MLCC용 니켈 나노분말의 합성
Preparation of Nickel Nanopowder using the Transferred Arc Plasma for MLCCs
정다운, 오성민, 박동화 |
| 3 |
Korean Chemical Engineering Research, 44 (3), pp.300-306 (2006)
유동층 화학기상증착(FB-CVD)으로 제조한 광촉매 박막증착 비드의 조업변수에 따른 반응성
Photocatalytic Activities of Titania Deposited Beads by FB-CVD as Operation Variables
임남윤, 이승용, 박재현, et al. |
| 4 |
HWAHAK KONGHAK, 39 (4), pp.385-389 (2001)
화학기상증착법으로 제조한 TiO2 막의 광촉매 활성
Photocatalytic Activity of the TiO2 Film Grown by Chemical Vapor Deposition
정상철, 김상채, 서성규 |
| 5 |
HWAHAK KONGHAK, 36 (6), pp.896-902 (1998)
[2.2]Paracyclophane으로부터 패릴린-N 박막의 저온 증착
Low Temperature Vapor Deposition of Parylene-N Films from [2.2]Paracyclophane
김의정, 김선규, 박래학, et al. |
| 6 |
HWAHAK KONGHAK, 35 (3), pp.374-379 (1997)
ECR플라즈마를 이용한 화학증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 특성
Characteristics of Silicon Oxide Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Using ECR Plasma Source
전법주, 오인환, 임태훈, et al. |
|
|
