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Search / Korean Journal of Chemical Engineering
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| Total 7 articles [ 키워드: SiO2 ] |
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Article |
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Korean Chemical Engineering Research, 42 (6), pp.712-715 (2004)
Hard Mask 용 SiO2의 NF3/Ar ICP 식각특성과 실험계획법과의 비교
Dry Etching of SiO2 Hard Mask in NF3/Ar Inductively Coupled Plasmas and Comparison with Design of Experiments
박형조, 라현욱, 남기석, et al. |
| 2 |
HWAHAK KONGHAK, 38 (2), pp.244-248 (2000)
SiO2 나노입자의 불꽃반응에 의한 제조와 Epoxy Molding Compound에의 응용
Synthesis of Silica Nanoparticles by Flame REaction and Application to the Epoxy Molding Compound
장희동 |
| 3 |
HWAHAK KONGHAK, 37 (2), pp.229-234 (1999)
산화구리가 담지된 씰리카-알루미나 흡수제의 황화반응 속도론
Sulfation Kinetics of CuO Loaded Silica-Alumina Sorbent
유경선, 정상문, 김상돈 |
| 4 |
HWAHAK KONGHAK, 36 (1), pp.73-77 (1998)
이산화탄소 수소화반응에 대한 주기조작의 영향
Effect of Periodic Operation on Hydrogenation of Carbon Dioxide
김경구, 남영우 |
| 5 |
HWAHAK KONGHAK, 35 (6), pp.900-907 (1997)
ECR플리즈마를 이용한 실리콘 산화막의 제조
Preparation of Silicon Dioxide Film by ECR Plasma
전법주, 오인환, 임태훈, et al. |
| 6 |
HWAHAK KONGHAK, 34 (3), pp.300-304 (1996)
FTIR을 이용한 Cu/SiO2 촉매상에서의 메타올 분해반응 연구
FTIR Studies of Methanol Decomposition on Cu/SiO2
이동근, Bell AT |
| 7 |
HWAHAK KONGHAK, 34 (2), pp.243-248 (1996)
간략화된 MCVD 반응기에서의 초미립 SiO2 입자 증착특성
Deposition Characteristics of Ultrafine SiO2 Particles in Simplified MCVD Reactor
현봉수, 김교선 |
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