|
|
|
Search / Korean Journal of Chemical Engineering
|
| Total 6 articles [ 키워드: Etch rate ] |
| No. |
Article |
| 1 |
Korean Chemical Engineering Research, 58 (3), pp.474-479 (2020)
유리기판 박막화를 위한 습식공정에서 식각액 성분의 영향
Effects of Ingredients of Wet Etchant on Glass Slimming Process
신영식, 이원규 |
| 2 |
Korean Chemical Engineering Research, 54 (4), pp.548-554 (2016)
산화구리 잔유물 제거를 위한 카르복시산 함유 반수계 용액의 세정특성
Characteristics of Semi-Aqueous Cleaning Solution with Carboxylic Acid for the Removal of Copper Oxides Residues
고천광, 이원규 |
| 3 |
Korean Chemical Engineering Research, 51 (6), pp.755-759 (2013)
Bosch 공정에서 Si 식각속도와 식각프로파일에 대한 Ar 첨가의 영향
Effects of Ar Addition on the Etch Rates and Etch Profiles of Si Substrates During the Bosch Process
지정민, 조성운, 김창구 |
| 4 |
Korean Chemical Engineering Research, 50 (2), pp.211-216 (2012)
염화제이철 수용액에 의한 스테인레스 강판의 식각에 관한 연구
Wet Etching of Stainless Steel Foil by Aqueous Ferric Chloride Solution
이형민, 박무룡, 박광호, et al. |
| 5 |
Korean Chemical Engineering Research, 47 (1), pp.79-83 (2009)
Cl2/HBr/O2 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성
Characteristics of Amorphous Silicon Gate Etching in Cl2/HBr/O2 High Density Plasma
이원규 |
| 6 |
Korean Chemical Engineering Research, 44 (5), pp.483-488 (2006)
Remote 플라즈마에서 위치 및 반응기체에 따른 PMMA의 식각 특성 분석
Influence of Loading Position and Reaction Gas on Etching Characteristics of PMMA in a Remote Plasma System
고천광, 이원규 |
|
|
