|
Search / Korean Journal of Chemical Engineering
|
Total 4 articles [ 저자: 정일현 ] |
No. |
Article |
1 |
HWAHAK KONGHAK, 36 (4), pp.530-535 (1998) 플라즈마 중합된 Trifluoromethane막의 플라즈마 표면개질 Plasma Surface Modification of Plasma Polymerized Trifluoromethane Films 황승노, 정일현 |
2 |
HWAHAK KONGHAK, 35 (6), pp.900-907 (1997) ECR플리즈마를 이용한 실리콘 산화막의 제조 Preparation of Silicon Dioxide Film by ECR Plasma 전법주, 오인환, 임태훈, et al. |
3 |
HWAHAK KONGHAK, 35 (3), pp.374-379 (1997) ECR플라즈마를 이용한 화학증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 특성 Characteristics of Silicon Oxide Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Using ECR Plasma Source 전법주, 오인환, 임태훈, et al. |
4 |
HWAHAK KONGHAK, 25 (2), pp.175-182 (1987) 축 방향 분산 모델의 해석적 방법에 관한 연구 A Study on the Discrimination of Analytical Method in Dispersion Model 정일현, 전해수 |
|
|